You-Seok Suh,: шукати на сайті Z-Library

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024 Про збір коштів

Найбільша колекція наукових статей у сіті. 70,000,000+ безкоштовних статей.

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024

Z-Library - одна з найбільших онлайн-бібліотек у світі, в якій зберігається більше 17,000,000 книг та 84,837,000 статей. Ми намагаємось зробити літературу доступною кожному. Сьогодні (15 вересня 2024) ми відкриваємо додатковий збір пожертвувань на підтримку та розвиток проекту.

Також БЕЗЛІМТНІ завантаження (протягом 31 дня після завершення пожертвування) доступні для ВСІХ користувачів, які підтримають проект в період збору коштів до 1 жовтня 2024.

Про збір коштів Детальніше

Підтримати

Книги
Статті (14)
Найпопулярніші
Перелік
- Перелік
- Таблиця

1

[IEEE International Electron Devices Meeting. Technical Digest - Washington, DC, USA (2-5 Dec. 2001)] International Electron Devices Meeting. Technical Digest (Cat. No.01CH37224) - Properties of Ru-Ta alloys as gate electrodes for NMOS and PMOS silicon devices

Huicai Zhong,, Shin-Nam Hong,, You-Seok Suh,, Lazar, H., Heuss, G., Misra, V.

Рік:

2001

Мова:

english

Файл:

PDF, 345 KB

english, 2001

2

[IEEE IEEE International Electron Devices Meeting - San Francisco, CA, USA (8-11 Dec. 2002)] Digest. International Electron Devices Meeting, - Tunable work function dual metal gate technology for bulk and non-bulk CMOS

JaeHoon Lee,, Huicai Zhong,, You-Seok Suh,, Heuss, G., Gurganus, J., Bei Chen,, Misra, V.

Рік:

2002

Мова:

english

Файл:

PDF, 239 KB

english, 2002

3

Investigation of stress behaviors and mechanism of void formation in sputtered TiSix films

You-Seok Suh, Dae-Gyu Park, Se-Aug Jang

Журнал:

Thin Solid Films

Рік:

2004

Мова:

english

Файл:

PDF, 372 KB

english, 2004

4

Electrical properties of Ru and RuO2gate electrodes for Si-PMOSFET with ZrO2and Zr-silicate dielectrics

Huicai Zhong, Greg Heuss, You-Seok Suh, Veena Misra, Shin-Nam Hong

Журнал:

Journal of Electronic Materials

Рік:

2001

Мова:

english

Файл:

PDF, 307 KB

english, 2001

5

[Japan Soc. Appl. Phys 2001 Symposium on VLSI Technology. Digest of Technical Papers - Kyoto, Japan (12-14 June 2001)] 2001 Symposium on VLSI Technology. Digest of Technical Papers (IEEE Cat. No.01 CH37184) - Electrical characteristics of TaSi/sub x/N/sub y/ gate electrodes for dual gate Si-CMOS devices

You-Seok Suh,, Heuss, G., Huicai Zhong,, Shin-Nam Hong,, Misra, V.

Рік:

2001

Мова:

english

Файл:

PDF, 197 KB

english, 2001

6

Effect of the composition on the electrical properties of TaSi/sub x/Ny metal gate electrodes

You-Seok Suh,, Heuss, G.P., Jae-Hoon Lee,, Misra, V.

Журнал:

IEEE Electron Device Letters

Рік:

2003

Мова:

english

Файл:

PDF, 294 KB

english, 2003

7

[IEEE IEEE International Electron Devices Meeting 2003 - Washington, DC, USA (8-10 Dec. 2003)] IEEE International Electron Devices Meeting 2003 - Compatibility of dual metal gate electrodes with high-k dielectrics for CMOS

JaeHoon Lee,, You-Seok Suh,, Lazar, H., Jha, R., Gurganus, J., Yanxia Lin,, Misra, V.

Рік:

2003

Мова:

english

Файл:

PDF, 256 KB

english, 2003

8

Electrical characteristics of TaSi[sub x]N[sub y]/SiO[sub 2]/Si structures by Fowler–Nordheim current analysis

Suh, You-Seok, Heuss, Greg P., Misra, Veena

Журнал:

Applied Physics Letters

Рік:

2002

Мова:

english

Файл:

PDF, 274 KB

english, 2002

9

Retarded C54 transformation and suppressed agglomeration by precipitates in TiSi[sub 2] films

Suh, You-Seok, Park, Dae-Gyu, Jang, Se-Aug, Lee, Sang-Hyeob, Kim, Tae-Kyun, Yeo, In-Seok, Kim, Sam-Dong, Kim, Chung-Tae

Журнал:

Journal of Applied Physics

Рік:

2000

Мова:

english

Файл:

PDF, 604 KB

english, 2000

10

[IEEE International Electron Devices Meeting. Technical Digest - Washington, DC, USA (2-5 Dec. 2001)] International Electron Devices Meeting. Technical Digest (Cat. No.01CH37224) - Robust ternary metal gate electrodes for dual gate CMOS devices

Dae-Gyu Park,, Tae-Ho Cha,, Kwan-Yong Lim,, Heung-Jae Cho,, Tae-Kyun Kim,, Se-Aug Jang,, You-Seok Suh,, Veena Misra,, In-Seok Yeo,, Jae-Sung Roh,, Jin Won Park,, Hee-Koo Yoon,

Рік:

2001

Мова:

english

Файл:

PDF, 349 KB

english, 2001

11

Electrical Characteristics of HfO[sub 2] Dielectrics with Ru Metal Gate Electrodes

Suh, You-Seok, Lazar, Heather, Chen, Bei, Lee, Jae-Hoon, Misra, Veena

Журнал:

Journal of The Electrochemical Society

Рік:

2005

Мова:

english

Файл:

PDF, 509 KB

english, 2005

12

Thermal Stability of TaSi[sub x]N[sub y] Films Deposited by Reactive Sputtering on SiO[sub 2]

Suh, You-Seok, Heuss, Greg P., Misra, Veena, Park, Dae-Gyu, Lim, Kwan-Yong

Журнал:

Journal of The Electrochemical Society

Рік:

2003

Мова:

english

Файл:

PDF, 487 KB

english, 2003

13

Effects of the Process Variable on Sputtered TiSi[sub x] Polycide Gate Electrodes for sub-0.15 μm Memory Device Application

Kim, Sam-Dong, Hwang, In-Seok, Rhee, Jin-Koo, Suh, You-Seok, Park, Dae-Gyu

Журнал:

Journal of The Electrochemical Society

Рік:

2001

Мова:

english

Файл:

PDF, 383 KB

english, 2001

14

Promising Gate Stacks with Ru & RuO2 Gate Electrodes and Y-silicate Dielectrics

Zhong, Huicai, Heuss, Greg, Suh, You-Seok, Hong, Shin-Nam, Misra, Veena, Kelly, Jason, Parsons, Gregory

Журнал:

MRS Proceedings

Рік:

2001

Мова:

english

Файл:

PDF, 527 KB

english, 2001